電子行業用水(shui)領域
一、電子行(xing)業用水簡介(jie)
半導體、集(ji)成(cheng)(cheng)電(dian)路芯片及封裝、液晶顯示、高(gao)(gao)精度線路板、光電(dian)器件、各種電(dian)子(zi)(zi)(zi)器件、微電(dian)子(zi)(zi)(zi)工業(ye)(ye)、大(da)規模(mo)、超大(da)規模(mo)集(ji)成(cheng)(cheng)電(dian)路需用大(da)量的純水、高(gao)(gao)純水、超純水清洗(xi)半成(cheng)(cheng)品(pin)、成(cheng)(cheng)品(pin)。集(ji)成(cheng)(cheng)電(dian)路的集(ji)成(cheng)(cheng)度越(yue)(yue)高(gao)(gao)，線寬越(yue)(yue)窄(zhai)，對水質的要求也(ye)越(yue)(yue)高(gao)(gao)。目前我國(guo)電(dian)子(zi)(zi)(zi)工業(ye)(ye)部把電(dian)子(zi)(zi)(zi)級水質技術(shu)分(fen)為五個行業(ye)(ye)等級，分(fen)別(bie)為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以(yi)區(qu)分(fen)不(bu)同水質。
二、應用范圍
1、電(dian)子(zi)、電(dian)力(li)、電(dian)鍍(du)、照(zhao)明電(dian)器、實(shi)驗室、食品(pin)、造(zao)紙(zhi)、日化、建材、造(zao)漆、蓄(xu)電(dian)池、化驗、生物、制藥、石(shi)油、化工、鋼鐵、玻璃(li)等領域(yu)。
2、化(hua)工工藝用水、化(hua)學藥劑、化(hua)妝(zhuang)品等(deng)用純水。
3、單(dan)晶(jing)硅、半導體晶(jing)片切(qie)割制造、半導體芯片、半導體封裝 、引(yin)線(xian)(xian)柜架、集成電(dian)(dian)路、液晶(jing)顯(xian)示器、導電(dian)(dian)玻璃、顯(xian)像(xiang)管、線(xian)(xian)路板、光(guang)通信、電(dian)(dian)腦元(yuan)件、電(dian)(dian)容器潔凈產品及各種元(yuan)器件等生產工藝用純水。
三、工藝簡介
1、系(xi)統(tong)模(mo)塊(kuai)化設計(ji)，共分(fen)四部分(fen)：預處理(li)系(xi)統(tong)、反(fan)滲透(tou)系(xi)統(tong)、EDI系(xi)統(tong)、終(zhong)端供(gong)水(shui)系(xi)統(tong)。
2、預處理(li)系(xi)(xi)統主要(yao)用(yong)來去除原水(shui)中(zhong)的懸(xuan)浮物、濁(zhuo)度、色度、膠(jiao)體以及部(bu)分有機物，保證產水(shui)符合反滲透系(xi)(xi)統的進水(shui)水(shui)質(zhi)要(yao)求。
3、反滲透系統主(zhu)要(yao)用(yong)來去除原水(shui)(shui)中溶解(jie)性鹽類物質(zhi)、細(xi)菌、熱源等，保證產水(shui)(shui)符合EDI系統進(jin)水(shui)(shui)水(shui)(shui)質(zhi)要(yao)求。
4、EDI系(xi)統主要(yao)用(yong)來對反滲透產(chan)水(shui)進行進一(yi)步脫(tuo)除溶(rong)解性的(de)小(xiao)分子鹽(yan)類物質，產(chan)水(shui)達(da)到電阻率達(da)到15MΩ.cm以上。
5、終端供水(shui)(shui)系統主要是用來(lai)將(jiang)合(he)格(ge)水(shui)(shui)輸送至用水(shui)(shui)點，輸送過程中對EDI產(chan)生進行最后的離子交換脫鹽，使(shi)得產(chan)水(shui)(shui)達到(dao)電阻率達到(dao)18MΩ.cm以上。
6、整(zheng)個系統進行集(ji)中控制。
四、技術(shu)特色
1、系統模(mo)塊(kuai)化(hua)設計(ji)，占地面積小(xiao)，操作(zuo)維護方便，安裝(zhuang)方便快(kuai)捷，整體美觀。
2、整套系統實現全(quan)自動(dong)(dong)化運(yun)行，并且手動(dong)(dong)與自動(dong)(dong)自由切(qie)換。
3、設備產水(shui)(shui)水(shui)(shui)質穩(wen)定(ding)，運(yun)行連(lian)續穩(wen)定(ding)。
4、系統工藝先進，無(wu)需化(hua)學藥品再生，無(wu)危害性廢液排放。
5、系統節水(shui)率(lv)(lv)高，系統回收率(lv)(lv)在75%以(yi)上。
6、關鍵部位采(cai)用(yong)在(zai)線(xian)儀表監測(ce)，適(shi)時(shi)數據上(shang)傳。
五、設備參(can)數
1、系統(tong)回(hui)收(shou)率：
超(chao)濾≥90%
一級反滲透≥75%
二級反滲透≥85%
EDI系(xi)統≥90%
2、設備產水符(fu)合《電(dian)子(zi)超(chao)純水國(guo)家標(biao)準》 （GB/T1144.6.1-1997）或美國(guo)半導體(ti)工業純水指標(biao)。
3、單支膜脫鹽率≥99.5%（水溫(wen)25℃）。
